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題名 | ICP-MS在半導體製程的應用 |
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作者 | 張士仁; 陳順隆; | 書刊名 | 科儀新知 |
卷期 | 20:1=105 1998.08[民87.08] |
頁次 | 頁51-58 |
專輯 | ICP-MS專題 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 感應耦合電漿質譜儀; 半導體製程; ICP-MS; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 隨著半導體製程對化學品潔淨度的要求日益嚴格,必須有更好的分析技術來滿足 量測的需求,ICP-MS分析技術在半導體製程的應用,主要是在微污染元素的鑑定與監測。 本文除了將介紹ICP-MS分析枝術在半導體製程的應用之外,另外對於半導體製程中常用化 學品的應用,以及在實際進行分析時遭遇的問題與其解決方法亦將一併探討。 |
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