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題名 | Surface and Inner Morphology Study of Hydrogenated Amorphous Silicon Films by Electron Microscope Analysis=利用電子顯微鏡對非晶形矽:氫薄膜表面與內部形態之研究 |
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作者 | 周榮泉; | 書刊名 | 國立雲林技術學院學報 |
卷期 | 1 1992.06[民81.06] |
頁次 | 頁29-37 |
分類號 | 345.11 |
關鍵詞 | 非晶形矽:氫; 掃描式電子顯微鏡; 穿透式電子顯微鏡; 紅外線光譜; 針孔; 氫逸散; 表面形態; 內部形態; Hydrogenated amorphous silicon; Scanning electron microscope; Transmission electron microscope; Infrared spectrum; Pin hole; Hydrogen evolution; Surface morphology; Inner morphology; |
語文 | 英文(English) |
中文摘要 | 人以電漿輔助低壓化學沈積系統備製非晶形矽:氫薄膜,在各種備製 條件,經由掃描式電子顯微鏡可觀察非晶形矽:氫薄膜的表面形態,並藉著紅 外線光譜的分析可解釋非晶形:氫薄膜的表面形態。由上述的分析,吾人可 了解非晶形:氫薄膜表面針孔形成的主要原因係薄膜中的氫由(SiH2)n ≧ 1 鍵 結中擴散至表面而造成。另外吾人亦藉穿透式電子顯微鏡可直接觀察非晶形: 氫薄膜之內部形態,其核凝晶根的排列與分佈亦與紅外線光譜儀所得到的資料 互相印證。 |
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