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來源資料
真空科技
4:1 1991.02[民80.02]
頁19-23
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題名
蒸鍍與濺鍍基板加熱和沈積速率的關係
作者姓名(中文)
鄭玉鉦
;
書刊名
真空科技
卷期
4:1 1991.02[民80.02]
頁次
頁19-23
分類號
448.533
關鍵詞
蒸鍍
;
濺鍍
;
真空技術
;
印刷線路板
;
語文
中文(Chinese)
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