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來源資料
電子發展月刊
124 1988.04[民77.04]
頁26-29
電機工程
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電燈廠
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題名
用於VLSI的氮化矽回蝕刻複晶矽氧化隔離技術
作 者
趙芳慶
;
陳熊光
;
李銘廣
;
書刊名
電子發展月刊
卷期
124 1988.04[民77.04]
頁次
頁26-29
分類號
448.57
關鍵詞
氧化
;
氮化矽
;
隔離
;
蝕刻
;
複晶矽
;
語文
中文(Chinese)
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