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| 題 名 | 半導體用高解析光阻劑=High-resolution Photoresist for Semiconductors |
|---|---|
| 作 者 | 許玉瑩; 劉逸芩; 黃耀正; 張德宜; | 書刊名 | 工業材料 |
| 卷 期 | 461 2025.05[民114.05] |
| 頁 次 | 頁30-37 |
| 專 輯 | 半導體光阻材料技術專題 |
| 分類號 | 448.65 |
| 關鍵詞 | 光阻劑; 光學微影; 化學增幅型; 半導體; Photoresist; PR; Optical lithography; Chemical amplified resist; CAR; Semiconductor; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |