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題名 | 專利審查實務發展與變革--新型篇=Development and Reform of Patent Examination Practice--Focus on Utility Model |
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作者 | 劉正旭; 陳志弘; Liu, Cheng-hsu; Chen, Chih-hung; |
期刊 | 智慧財產權月刊 |
出版日期 | 20240500 |
卷期 | 305 2024.05[民113.05] |
頁次 | 頁109-120 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 形式審查; 專利要件; 一案兩請; 標的適格性; 更正; 技術報告; Formality examination; Patentability; Two applications for same creation; Eligibility; Post-grant amendment; Technical evaluation report; |
中文摘要 | 新型專利制度創設目的,主要係保護物品之創作,該制度與發明及設計專利 間,規範雖各有不同,然三者皆以驅動科技創新為目的,共同支撐起專利保護之 完善架構,彼此具有相輔相成關係,以期全面保障申請人權益。本文回顧專利法 公布 80 週年以來,審查實務的重要發展與變革,包括介紹申請案實體審查時期之 審查要件及保護標的等,其次介紹申請案形式審查制度之成因及其影響,此為該 制度迄今最為重大之變革,對此,本文簡介審查要件、標的適格性、更正制度相 關實務、一案兩請權利接續等,說明立法意旨及其實務特點,並概述新型專利技 術報告之作用及其內容,藉由上述導覽整體制度沿革,期可供外界掌握實務脈動。 |
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