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題名 | 電漿輔助原子級氣相沉積技術介紹=Introduction of Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition Technique |
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作者姓名(中文) | 林宜鋒; 劉仲軒; 丁肇誠; | 書刊名 | 真空科技 |
卷期 | 30:4 2017.12[民106.12] |
頁次 | 頁58-64 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 電漿輔助原子級氣相沉積技術; 電漿表面處理; 前驅物; 表面反應; PEALD; Plasma surface treatment; Precursor; Surface reaction; |
語文 | 中文(Chinese) |