您的瀏覽器不支援或未開啟JavaScript功能,將無法正常使用本系統,請開啟瀏覽器JavaScript功能,以利系統順利執行。
返回
/NclService/
快速連結
跳到主要內容
:::
首頁
關於本站
網站導覽
聯絡我們
國家圖書館
English
開啟查詢結果分析
查詢資訊
期刊論文索引(找篇目)
指令檢索
期刊指南(找期刊)
近代 (1853-1979年) 港澳華文期刊索引
漢學中心典藏大陸期刊論文索引
中國文化研究論文目錄
期刊瀏覽
檢索歷程
期刊授權
出版機構
公佈欄
常見問題
軟體工具下載
:::
首頁
>
查詢資訊
>
期刊論文索引查詢
>
詳目列表
查詢結果分析
來源資料
商業現代化學刊
7:2 2013.09[民102.09]
頁185-200
相關文獻
高電流離子植入機之參數最佳化選擇--以U公司為例
Object-Oriented Design Methodology and Implementation of an Optimizing Adaptive Quality Controller for Semiconductor Manufacturing Processes
田口法應用於最佳化設計問題
半導體製程環境中空降分子污染物的特性與質譜分析
VPD/TXRF的基本原理和在半導體製程的應用
推動國內工程專案管理制度之探討
我國半導體製程設備發展策略
軟體專案管理
製造業Y2K技術指引--專案管理篇
ICP-MS在半導體製程的應用
頁籤選單縮合
基本資料
引用格式
國圖館藏目錄
全國期刊聯合目錄
勘誤回報
我要授權
匯出書目
題 名
高電流離子植入機之參數最佳化選擇--以U公司為例=High Current Ion Implanter of Parameters Base on the Best Choose--A Case Study of U Group
作 者
羅文志
;
戴貞德
;
書刊名
商業現代化學刊
卷 期
7:2 2013.09[民102.09]
頁 次
頁185-200
分類號
494.542
關鍵詞
半導體製程
;
專案管理
;
田口法
;
高電流離子植入機
;
Taguchi's method
;
HC
;
Ge
;
Project management
;
語 文
中文(Chinese)
頁籤選單縮合
推文
引用網址
引用嵌入語法
Line
FB
Google bookmarks
本文的引用網址:
複製引用網址
本文的引用網址:
複製引用網址