您的瀏覽器不支援或未開啟JavaScript功能,將無法正常使用本系統,請開啟瀏覽器JavaScript功能,以利系統順利執行。
返回
/NclService/
快速連結
跳到主要內容
:::
首頁
關於本站
網站導覽
聯絡我們
國家圖書館
English
開啟查詢結果分析
查詢資訊
期刊論文索引(找篇目)
指令檢索
期刊指南(找期刊)
近代 (1853-1979年) 港澳華文期刊索引
漢學中心典藏大陸期刊論文索引
中國文化研究論文目錄
期刊瀏覽
檢索歷程
期刊授權
出版機構
公佈欄
常見問題
軟體工具下載
:::
首頁
>
查詢資訊
>
期刊論文索引查詢
>
詳目列表
查詢結果分析
來源資料
奈米通訊
21:4 2014.12[民103.12]
頁14-19
相關文獻
鎳與銻化鎵接觸之介面微觀與電性分析
晶片電阻簡介
我國晶片電阻產業上游材料市場分析
片電阻量測
熱化學氣相蒸鍍製程合成石墨烯
製程具迴流特性之薄膜晶片電阻廠之績效評估
石墨烯材料於太陽能電池之應用
軟體介面分析及介面測試之驗證概念
銅基板石墨烯的轉印參數影響探討
材料奈米檢測技術規畫與發展
頁籤選單縮合
基本資料
引用格式
國圖館藏目錄
全國期刊聯合目錄
勘誤回報
我要授權
匯出書目
題 名
鎳與銻化鎵接觸之介面微觀與電性分析=Interfacial Characterization and Electrical Properties of Ni-GaSb Contacts
作 者
林昆霖
;
陳仕鴻
;
書刊名
奈米通訊
卷 期
21:4 2014.12[民103.12]
頁 次
頁14-19
分類號
448.552
關鍵詞
鎳與銻化鎵
;
介面分析
;
片電阻
;
TEM分析驗
;
Ni/GaSb
;
Microstructural characterization
;
Sheet resistance
;
TEM
;
語 文
中文(Chinese)
頁籤選單縮合
推文
引用網址
引用嵌入語法
Line
FB
Google bookmarks
本文的引用網址:
複製引用網址
本文的引用網址:
複製引用網址