查詢結果分析
來源資料
相關文獻
- 利用電漿增強化學氣相沉積法製作具高阻氣效能之有機矽基/氮氧化矽多對氣體阻障層結構
- 利用電漿增強化學氣相沉積法於可撓式塑膠基材上製備有機/無機多層氣體阻障層結構
- 應用影像處理技術分析噴霧覆蓋率之研究
- 擺動噴霧架設計與應用
- 蒸汽加熱與攪打時間對芋泥流變性質的影響
- 單一懸吊唇槽鋼軌道自走式噴霧裝置開發--行走及液體輸送性能試驗
- Study on Mechanical Properties of Silicon Oxide Gas Barrier Layer Deposited onto Flexible Plastic Substrates
- 以電漿增強化學氣相沉積法製備氮氧化矽氣體阻障層之研究
- 氣體阻障層結構沉積在圖案化基材表面階梯覆蓋性之研究
- 利用氧化鎳晶種層誘發結晶性二氧化鈦光觸媒薄膜特性之研究
頁籤選單縮合
題 名 | 利用電漿增強化學氣相沉積法製作具高阻氣效能之有機矽基/氮氧化矽多對氣體阻障層結構=The Preparation of a Quality Organosilicon/ Silicon Oxynitride Multilayered Barrier Structure by Using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition |
---|---|
作 者 | 陳順祺; 呂紹楷; 李俊永; 林泓均; 陳煜杰; 吳建輝; 陳泰宏; 賴豊文; 黃吉廷; 劉代山; | 書刊名 | 真空科技 |
卷 期 | 27:4 2014.12[民103.12] |
頁 次 | 頁55-60 |
分類號 | 448.59 |
關鍵詞 | 電漿增強化學氣相沉積法; 有機矽基/氮氧化矽氣體阻障層; 殘留內應力; 附著度; 水氣滲透率; Plasma-enhanced chemical vapor deposition; Organosilicon/silicon oxynitride multilayer structure; Residual internal stress; Adhesion; WVTR; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本研究以四甲基矽烷單體以及四甲基矽烷-氨氣-氧氣混合氣體為源氣體,利用電漿增強化學氣相沉積法,在可撓式塑膠基板上,於低溫環境下連續沉積有機矽基/氮氧化矽多對氣體阻障層結構,藉由調變有機矽基層薄膜厚度,控制結構中的殘留內應力,並進而提升結構的附著度與氣體阻障能力。研究結果顯示,在三對有機矽基/氮氧化矽多層結構中,適當調整結構中有機矽基薄膜厚度,可以獲得具有最低的結構殘留壓應力約(-152 MPa),且此時薄膜附著度也達到ASTM D3359之5B等級,該結構沉積在PET塑膠基板上更可以大幅提升基板的水氣阻障能力,利用鈣測試法在室溫環境下量測其水氣滲透率約為5.5×10^(-4) g/m^2/day。 |
英文摘要 | In this study, an organosilicon/silicon oxynitride multilayered barrier structure was consecutively deposited onto the flexible substrate at a low temperature by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) system, using tetramethylsilane (TMS) monomer and TMS-ammonia (NH_3)- oxygen mixture gas, respectively. The internal stress resided in the multilayered structure was controlled by altering the organosilicon layered thickness in the multilayered structure to enhance the structure adhesion and barrier property to water vapor permeation. The result showed that a 3-pairs organosilicon/silicon oxynitride multilayered structure with the lowest residual compressive stress (-152 MPa), which also exhibited the quality adhesion ranked as 5B according to ASTM D3359 and ultralow WVTR about of 5.5×10^(-4) g/m^2/day measured by standard calcium test method (Calcium test) was achieved after optimizing the thickness of the organosilicon layer. |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。