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題 名 | Infrared/Matrix Isolation Study of the Reaction of Acetylene Halides:HCCCl with O[feaf]=紅外光譜/間質隔離法研究鹵化乙炔之反應:氯化乙炔與氧 |
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作 者 | 黃美利; 方惠芬; 許偉亮; | 書刊名 | 義守大學學報 |
卷 期 | 4 1997.08[民86.08] |
頁 次 | 頁219-230 |
分類號 | 346.2 |
關鍵詞 | 間質隔離; 紅外光譜; 鹵化乙炔; 氯化乙炔; 氧化反應; Matrix isolation; Infrared spectrum; Acetylene chloride; Oxidation; |
語 文 | 英文(English) |
中文摘要 | 氯化乙炔與氧分子純氣體或在氬間質中瞬間混合或短矩離預先混合後再沉積,沒 有新的吸收峰被發現。當預先混合距離改為十九公分後再沉積則有許多新增吸收峰出現。根 據新的波峰位置,一氧化碳,二氧化碳和氯化甲醛 (HCOCI) 被發現為主要產物。 氯化乙二 酮 (HCOCOCI) 則暫定為首次隔離之中間產物。可能之反應機構也一併被討論。 |
英文摘要 | The codeposition of HCCCI with O�皋r single-jet deposition of premixed sample at short distance both in gas phase or in Ar matriz gave no apparent new band. While many new peaks were observed as the premixed distance increased to 19 cm. From the position of new absorption, CO, CO ��, and formyl chlorde (HCOCI) are observed as major products. Glyxoal chloride(HCOCOCI) is tentative assigned as an intermediate which is first isolated. The possible reaction mechanism are also discussed. |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。