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題名 | 應用共光程外差干涉橢偏術於光學薄膜量測 |
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作者姓名(中文) | 蔡修安; 劉彥志; 顏聖展; 安乃駿; 羅裕龍; | 書刊名 | 電子月刊 |
卷期 | 19:1=210 2013.01[民102.01] |
頁次 | 頁154-163 |
分類號 | 448.5 |
關鍵詞 | 共光程外差干涉; 橢圓偏光術; 光學薄膜量測; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 橢圓偏光儀可說與干涉儀精密度相當的一種測量儀器,為一種用於測量一束偏振光從被研究的表面或薄膜上反射後偏振狀態產生變化的光學儀器,主要針對研究兩材料介質面或薄膜中發生的現象及其特性的一種光學方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射時出現的偏振變換。橢圓偏振測量的應用範圍很廣,如半導體、光學掩膜、圓晶、金屬、介電薄膜、玻璃(或鍍膜)、激光反射鏡、大面積光學膜、有機薄膜等,也可用於介電、非晶半導體、聚合物薄膜、用於薄膜生長過程的實時監測等測量,可用來測量待測物樣本以得到待測物的厚度、折射率、吸收率或其表面及薄膜的相關物理、光學參數的信息;結合計算機後,具有可手動改變入射角度、實時測量、快速數據獲取等優點。本文從解析橢圓偏光術原理與共光程外差干涉技術切入,希望讀者對於橢圓偏光術與共光程外差干涉技術能有初步的認識,並介紹本文研究所開發之應用共光程外差干涉橢偏術量測系統進行光學薄膜量測及其工作原理,並將其研發成果及討論與讀者分享。 |
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