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| 題 名 | 磁控濺鍍負電荷介質薄膜在矽晶太陽電池上的應用=Applications of Negative Charge Thin Films on Silicon Solar Cells |
|---|---|
| 作 者 | 陳昇暉; 許俊哲; 李正中; | 書刊名 | 真空科技 |
| 卷 期 | 24:2 2011.06[民100.06] |
| 頁 次 | 頁99-105 |
| 分類號 | 468.1 |
| 關鍵詞 | 負電荷介質薄膜; 矽晶太陽能電池; 表面復合速率; Negative charge thin film; Crystalline silicon solar cell; Surface recombination velocity; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |
| 中文摘要 | 負電荷介質薄膜可降低太陽能電池自由載子之表面復合速率,進而提升矽晶太陽能電池轉換效率。本研究以磁控濺鍍製作 AlOxNy 薄膜,負電荷累積量達到 -2.26×1012 cm-2,可提升矽晶太陽能電池太陽能轉換效率由 15.9% 提升到 17.3%。 |
| 英文摘要 | Negative charge thin film, AlOxNy has been fabricated to passivate the surface of crystalline silicon solar cell and reduce the surface recombination velocity. The fabrication of the fi lm was using ion-beam sputtering deposition and following annealing in oxygen ambient. The fi xed charge density has increased from 1011 cm-2 to 2.26×1012 cm-2 after annealing. The solar cell effi ciency increased from 15.9% to 17.3%. |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。