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題名 | 探討X光光電子能譜儀分析系統組件技術用於二氧化鋯化學態鍵結與計量分析 |
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作者 | 楊君惠; | 書刊名 | 電子月刊 |
卷期 | 17:8=193 2011.08[民100.08] |
頁次 | 頁98-107 |
專輯 | 量測技術與設備專輯 |
分類號 | 343.381 |
關鍵詞 | X光光電子能譜儀; 角度解析光電子能譜分析; 化學計量分析; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | X光光電子能譜儀(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)為表面材料的分析工具之一,因有化學分析的功能,又可稱之為化學分析電子儀(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis, ESCA)。它可廣泛應用於電機、機械、電子、化工、化學、材料、半導體製程、高分子材料、金屬及合金材料、多層薄膜結構分析、介電材質薄膜化學分析、腐蝕分析、以及表面處理等研究領域。文中介紹早期的XPS設備與近年XPS儀器設備的系統組件功能的不同,可依分析需求加裝各種系統組件如X光光源、紫外光電子能譜系統(Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy, UPS)、電荷補償系統(Charge Neutralization)、角度解析光電子能譜分析系統(Angle Resolved X-Ray Photoelectron Spectroscopy , ARXPS)、電子槍(Electron Gun)與C60離子槍(C60 Ion Gun)系統,並說明各種系統組件適用的方式與優缺點,目地在於使分析需求者都能善用各種系統組件功能,並依其所需分析之特性,適當選擇系統功能組件,達到儀器分析功能之最佳效益。本文以物理性氣相沉積方式沉積鋯層於矽層矽的實驗為例,針對結構層鋯與矽經不同退火溫度500 ℃與700 ℃處理後所形成二氧化鋯(ZrO2),分析表面鋯與氧的化學態鍵結形態,並利用鋯與氧的能譜圖進行化學計量的計算分析。 |
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