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題名 | 絕緣層置於環型佈植區以提高互補式金屬氧化物半導體之性能=Insulating Halos to Boost Planar CMOS Performance |
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作者姓名(中文) | 許文瑋; 賴昭昀; 何偉碩; 劉致為; | 書刊名 | 奈米通訊 |
卷期 | 18:2 2011.06[民100.06] |
頁次 | 頁2-7 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 環型佈植區; 電介質; 嵌入式絕緣體; Insulating halo; Embedded insulator; Dielectric; |
語文 | 中文(Chinese) |