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題名 | 以連續性濺鍍系統及無毒硒化爐發展銅銦鎵硒薄膜太陽能電池 |
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作者姓名(中文) | 沈昌宏; 吳宗達; 黃哲瑄; 謝嘉民; | 書刊名 | 電子月刊 |
卷期 | 17:3=188 2011.03[民100.03] |
頁次 | 頁99-115 |
專輯 | 半導體與光電製程設備專輯 |
分類號 | 468.1 |
關鍵詞 | 銅銦鎵硒薄膜太陽能電池; 濺鍍技術; 硒化技術; CIGS solar cell; Sputtering technology; Selenization technology; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 目前,銅銦鎵硒薄膜太陽能電池遭遇量產化不易,包括轉換效率不足、大面積化均勻度差、量產速度慢、元件含鎘及製程含有劇毒氣體等問題。為此,本文章提出以大面積(G1 30×40cm2)連續性濺鍍法配合無毒硒化技術,以開發具量產價值之銅基四元素薄膜太陽能電池。在濺鍍技術部分,國家奈米實驗室也已經可以製備大面積、低阻抗(2×10-5 ?-cm)、高附著性的鉬底電極,以及大面積、低阻抗(1×10-3 ?-cm)、高穿透度(>85%)之透明導電膜。並藉由大面積之無毒硒化法製作CIGS薄膜,經PL分析無顯著缺陷形成,初步的製程整合結果顯示,此CIGS太陽能電池轉換效率可達1.4%。 |
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