頁籤選單縮合
題名 | 不同界面層之N型高介電質常數電晶體之界面特性比較=The Investigation of Electrical Characteristics on Different Interfacial-Layer N-MOSFETs with High-k Dielectrics |
---|---|
作者 | 陳啟文; 賴信誠; 陳穎達; 黃厚智; 葉文冠; 陳育廷; Chen, Chii-wen; Lai, Hsin-cheng; Chen, Ying-da; Huang, Hou-jhih; Yeh, Wen-kuan; Chen, Yu-ting; |
期刊 | 明新學報 |
出版日期 | 20090800 |
卷期 | 35:2 2009.08[民98.08] |
頁次 | 頁11-17 |
分類號 | 448.552 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 閘極漏穿遂電流; 高介電質常數材料; 界面層; Direct-tunneling; High-k dielectric; Interface layer; |