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來源資料
化工資訊與商情
65 2008.11[民97.11]
頁84-91
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題名
半導體廠酸鹼廢氣洗滌技術=Scrubbing Technology of Acidic and Basic Gas Emissions for Semiconductor Manufacturing Processes
作者姓名(中文)
黃俊超
;
吳信賢
;
李壽南
;
簡弘民
;
楊憲昌
;
書刊名
化工資訊與商情
卷期
65 2008.11[民97.11]
頁次
頁84-91
分類號
445.63
關鍵詞
半導體廠
;
酸鹼廢氣
;
廢氣排放
;
填充式洗滌塔
;
洗滌技術
;
界面活性劑
;
空氣品質
;
語文
中文(Chinese)
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