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題名 | 低濃度酸鹼廢氣高效率洗滌處理技術 |
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作者姓名(中文) | 簡弘民; 吳信賢; | 書刊名 | 工業污染防治 |
卷期 | 23:1=89 2004.01[民93.01] |
頁次 | 頁192-210 |
專輯 | 廢水、廢氣高級處理技術 |
分類號 | 445.63 |
關鍵詞 | 無機酸鹼廢氣; 洗滌; 噴霧塔; 界面活性劑; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 半導體程使用大量無機酸鹼等化學物質部分的無機酸鹼物質隨著製程非氣系統被送到洗滌塔處理後排放到大氣中。因為半導體產業的廢氣有”低濃度而高風量”的特性,雖然污染物排放濃度普遍較低,但是排放總量仍然相當可觀。 針對高科技產業工廠的洗條塔進行研時,發現酸性廢氣洗滌塔排氣中經常含有NH3,而對於去除NH3、HF與HCI氣體的效率普遍不佳,且有隨濃度降低而下降的趨勢。而且效率皆遠低於「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」中所要求的95%去除效率。對部份大廠而言,甚至也可能超出排放總量的管制標準,尤其是HF及HCI兩項廢氣成分。 本研究提出一項針對低濃度混合無機酸鹼廢氣之高俺率洗滌技術,利用兩段式洗滌克服酸鹼共排問題,同時利用界面活性劑改善對於低濃度範圍之洗滌效率。為評估技術之可行性,因此本研究設計組製一套處理風量可達10CMM的模廠設備來驗證此高效率洗滌技術處理低濃度混合無機酸鹼廢氣的效率。 測試結果顯示植技術可有效的處理低濃度混合無機鹼廢氣,使NH3、HF與HCI等三種廢氣成分之去率均達到90%。由於模廠操作參數與半導體廠洗滌塔實際上所採用之操作參數相近,本研帘果可以應用於提昇現有處理低濃度廢氣洗滌塔之效能。 |
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