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題名 | 化學氣相沉積鑽石薄膜經氫氣與氧氣電漿處理之磨耗與腐蝕性質=Wear and Corrosion Properties of HFCVD Diamond Films after Hydrogen and Oxygen Plasma Treatment |
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作者 | 李正國; 陳慶鴻; 吳東益; | 書刊名 | 先進工程學刊 |
卷期 | 3:3 2008.07[民97.07] |
頁次 | 頁187-192 |
分類號 | 472.15 |
關鍵詞 | 熱燈絲化學氣相沉積法; 拉曼光譜儀; X光繞射; 奈米壓痕分析儀; Hot filament chemical vapor deposition; Raman spectrometer; X-ray diffraction; Nano-indentation; |
語文 | 中文(Chinese) |