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題 名 | A Study of Thin Film Characteristics of High-K Oxide (Gd(feaf)O(feb0)) on Silicon Wafer=Gd(feaf)O(feb0)氧化物之高介電薄膜特性研究 |
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作 者 | 柯鴻禧; 陳世濃; 張鴻源; 陳俊良; | 書刊名 | 南開學報 |
卷 期 | 3:1 民94.03 |
頁 次 | 頁57-63 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 釓金屬氧化物薄膜; 崩潰電場強度; 陽極氧化法; 矽-釓化合物; Gd oxide film; Breakdown electric field; Anodic oxide; Gd-silicide; Thermal oxidation; |
語 文 | 英文(English) |