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題 名 | 在MgO緩衝層以射頻濺鍍法製備La(feb0)Ga(8fa3)SiO(fed8)薄膜與特性之研究=Preparation and Characterization of Thin La(feb0)Ga(8fa3)SiO(fed8) Films on MgO Buffer Layers by RF Sputtering |
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作 者 | 胡毅; 王逢偉; 林和龍; | 書刊名 | 科學與工程技術期刊 |
卷 期 | 3:4 2007.12[民96.12] |
頁 次 | 頁69-76 |
分類號 | 472.16 |
關鍵詞 | 射頻磁束濺鍍; 緩衝層; 退火處理; 結晶化; 光致發光; La(feb0)Ga(8fa3)SiO(fed8); LGS; Radio frequency sputtering; RF sputtering; Annealing; Crystallization; Photoluminescence; |
語 文 | 中文(Chinese) |