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來源資料
科儀新知
29:1=159 2007.08[民96.08]
頁26-32
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題 名
原子層沉積應用在三族氮化物之生長=The Application of Atomic Layer Deposition for the Growth of Ⅲ-Nitrides
作 者
呂東原
;
林泰源
;
龔志榮
;
書刊名
科儀新知
卷 期
29:1=159 2007.08[民96.08]
頁 次
頁26-32
專 輯
原子層沉積技術與應用專題
分類號
448.552
關鍵詞
原子層沉積
;
三族氮化物
;
發光二極體
;
語 文
中文(Chinese)
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