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題名 | 高介電薄膜與金屬閘極在次世代快閃記憶體之應用 |
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作 者 | 賴昇志; 吳泰伯; 呂函庭; 賴二琨; 謝光宇; 盧志遠; | 書刊名 | 電子月刊 |
卷期 | 13:4=141 2007.04[民96.04] |
頁次 | 頁152-163 |
專輯 | 電子材料專輯 |
分類號 | 471.6511 |
關鍵詞 | 非揮發性記憶體; 氮化矽缺陷捕捉型快閃記憶體; 高介電薄膜; 金屬閘極; Non-volatile memory; Nitride trapping flash memory; High-k film; Metal gate; TANOS; BE-SONOS; |
語文 | 中文(Chinese) |