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題名 | The Effects of Annealing Parameters on the Evolution of Surface Morphology of A-Si Thin Films Irradiated by ArF Excimer Laser=ArF準分子雷射退火參數對非晶矽薄膜退火後表面形貌變化影響之研究 |
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作者 | 陳大同; 張至宇; Chen, Ta-tung; Chang, Chih-yu; |
期刊 | 中正嶺學報 |
出版日期 | 20060500 |
卷期 | 34:2(A) 民95.05 |
頁次 | 頁171-183 |
分類號 | 448.5 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 準分子雷射; 表面形貌; 多晶矽; 超側向成長; 薄膜電晶體液晶顯示器; Excimer laser irradiation; Surface morphology; Poly-Si; SLG; TFT-LCDs; |