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題 名 | 光電化學蝕刻反應下n型 (100) 矽與氫氟酸溶液界面間之能帶圖研究=Energy Bands for the Interface between n-type Si(100) and HF Solution in the Photoelectrochemical Etching Reaction |
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作 者 | 鄭文達; 林景崎; | 書刊名 | 防蝕工程 |
卷 期 | 19:1 民94.03 |
頁 次 | 頁83-89 |
分類號 | 468 |
關鍵詞 | 能帶圖; 矽蝕刻; 光電化學; 氫氟酸; Energy band diagram; Silicon etching; Photoelectrochemical reaction; Hydrofluoric acid; |
語 文 | 中文(Chinese) |