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題 名 | 光電化學蝕刻製作矽質微米連續壁結構=Formation of Macro-wall Array on Silicon by Photo-electrochemical Etching |
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作 者 | 林景崎; 陳威宇; 賴建銘; 鄭文達; 陳韋旭; | 書刊名 | 防蝕工程 |
卷 期 | 19:3 民94.09 |
頁 次 | 頁351-359 |
分類號 | 448.59 |
關鍵詞 | n-型矽(100)單晶; 光電化學蝕刻; 連續壁; 陽極極化曲線; N-type silicon (100); Photo-electrochemical etching; Macro-wall array; DC-potentiodynamic polarization; |
語 文 | 中文(Chinese) |