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題名 | 光電化學蝕刻製作矽質微米連續壁結構=Formation of Macro-wall Array on Silicon by Photo-electrochemical Etching |
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作者 | 林景崎; 陳威宇; 賴建銘; 鄭文達; 陳韋旭; Lin, J. C.; Chen, W. Y.; Lai, C. M.; Jen, W. D.; Chen, W. S.; |
期刊 | 防蝕工程 |
出版日期 | 20050900 |
卷期 | 19:3 民94.09 |
頁次 | 頁351-359 |
分類號 | 448.59 |
語文 | chi |
關鍵詞 | n-型矽(100)單晶; 光電化學蝕刻; 連續壁; 陽極極化曲線; N-type silicon (100); Photo-electrochemical etching; Macro-wall array; DC-potentiodynamic polarization; |