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題 名 | 終點偵測技術於乾式去光阻製程設備之應用=Dry Strip Equipment and Process Utilizing End-Point Detection Technology |
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作 者 | 熊明德; 郭明村; 方宏聲; | 書刊名 | 機械工業 |
卷 期 | 270 民94.09 |
頁 次 | 頁15-23 |
專 輯 | 光電與半導體設備技術專輯 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 光阻; 乾式剝離; 終點偵測; 放射光譜; Photoresist; Dry strip; End point detection; Emission Spectrum; |
語 文 | 中文(Chinese) |