您的瀏覽器不支援或未開啟JavaScript功能,將無法正常使用本系統,請開啟瀏覽器JavaScript功能,以利系統順利執行。
返回
/NclService/
快速連結
跳到主要內容
:::
首頁
關於本站
網站導覽
聯絡我們
國家圖書館
English
開啟查詢結果分析
查詢資訊
期刊論文索引(找篇目)
期刊指南(找期刊)
近代 (1853-1979年) 港澳華文期刊索引
漢學中心典藏大陸期刊論文索引
中國文化研究論文目錄
期刊瀏覽
檢索歷程
期刊授權
出版機構
公佈欄
常見問題
軟體工具下載
:::
首頁
>
查詢資訊
>
期刊論文索引查詢
>
詳目列表
查詢結果分析
來源資料
電子月刊
11:4=117 2005.04[民94.04]
頁130-142
工程學總論
>
其他非金屬材料
相關文獻
應用於深次微米製程之擴散阻障層的發展及其未來展望
極大型積體電路之低介電常數材料應用及技術
銅金屬與低介電常數材料與製程
FLARE聚芳香烴醚膜之化學機械研磨特性評估
應用於先進積體電路之低介電常數材料
The Application of HfO[feaf]in IC Memory
未來積體電路的趨勢--單晶片系統
非鹵素電子構裝用難燃材料之合成與測試
使用尼曼A型分配於積體電路晶圓缺陷管制圖之經濟性設計
超大型積體電路的發展
頁籤選單縮合
基本資料
引用格式
國圖館藏目錄
全國期刊聯合目錄
勘誤回報
我要授權
匯出書目
題名
應用於深次微米製程之擴散阻障層的發展及其未來展望
作者姓名(中文)
張景鈞
;
陳貞夙
;
書刊名
電子月刊
卷期
11:4=117 2005.04[民94.04]
頁次
頁130-142
專輯
電子材料專輯
分類號
440.34
關鍵詞
低介電常數材料
;
電子材料
;
深次微米製程
;
積體電路
;
語文
中文(Chinese)
頁籤選單縮合
推文
引用網址
引用嵌入語法
Line
FB
Google bookmarks
本文的引用網址:
複製引用網址
本文的引用網址:
複製引用網址