查詢結果分析
來源資料
相關文獻
- 電漿粒子與物理薄膜沉積的關聯與發展
- 以電漿濺鍍技術製備鈀-銀合金薄膜於氫氣分離之研究
- 以電漿濺鍍技術製備電致色變薄膜及其性能之研究
- Transport Critical Current in Y-Ba-Cu-O Thin Films Prepared by DC Sputtering
- 脈衝磁控濺鍍技術介紹
- 原子層沉積之二氧化鉿感測薄膜於生醫感測器之應用
- 穿戴式產品之可撓式全固態薄膜鋰電池
- 高散熱性氧化鋁薄膜之研究
- Recent Advances in the Synthesis and Properties of Amorphous and Crystalline Carbon Nitride
- The Growth Process and Characterization of Y[feb5]Ba[feaf]Cu[feb0]O Superconducting Thin Films
頁籤選單縮合
題名 | 電漿粒子與物理薄膜沉積的關聯與發展 |
---|---|
作者 | 溫志中; | 書刊名 | 工業材料 |
卷期 | 209 2004.05[民93.05] |
頁次 | 頁77-83 |
專輯 | 先進鍍膜及超薄膜材料技術專題 |
分類號 | 448.5 |
關鍵詞 | 電漿; 物理薄膜沉積; 濺鍍; 離子輔助薄膜沉積; 薄膜; Plasma; Physical vapor deposition; Sputtering; Ion-Assisted deposition; Thin film; |
語文 | 中文(Chinese) |