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題名 | 於奈米氧化鋁研磨液中添加界面活性劑對化學機械研磨的影響=Effects of Added Surfactants on Chemical Mechanical Polishing in Nano-Alumina Slurries |
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作者姓名(中文) | 蔡子萱; | 書刊名 | 光武學報 |
卷期 | 27 2004.03[民93.03] |
頁次 | 頁93-103 |
分類號 | 446.895 |
關鍵詞 | 奈米氧化鋁研磨液; 界面活性劑; 化學機械研磨; Chemical mechanical polishing; Nano-alumina slurry; Surfactant; |
語文 | 中文(Chinese) |