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| 題 名 | 利用原子層控制之銅阻障層與種晶層沉積 |
|---|---|
| 作 者 | Haukka,Suvi; Raaijmakers,Ivo; Elers,Kai-erik; Kostamo,Juhana; Li,Wei-min; Sprey,Hessel; Soininen,Pekka J.; Tuominen,Marko; | 書刊名 | 電子月刊 |
| 卷 期 | 10:3=104 2004.03[民93.03] |
| 頁 次 | 頁131-134 |
| 專 輯 | 半導體製程設備專輯 |
| 分類號 | 448.5 |
| 關鍵詞 | 銅阻障層; 種晶層; 原子層化學汽相沉積; Atomic layer chemical vapor deposition; ALCVD; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |