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題名 | 利用原子層控制之銅阻障層與種晶層沉積 |
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作者 | Haukka,Suvi; Raaijmakers,Ivo; Elers,Kai-erik; Kostamo,Juhana; Li,Wei-min; Sprey,Hessel; Soininen,Pekka J.; Tuominen,Marko; | 書刊名 | 電子月刊 |
卷期 | 10:3=104 2004.03[民93.03] |
頁次 | 頁131-134 |
專輯 | 半導體製程設備專輯 |
分類號 | 448.5 |
關鍵詞 | 銅阻障層; 種晶層; 原子層化學汽相沉積; Atomic layer chemical vapor deposition; ALCVD; |
語文 | 中文(Chinese) |