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題 名 | 採用電子束微影的近接效應來製作矽的奈米線結構 |
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作 者 | 胡淑芬; 翁文慶; 宋金龍; 翁偉哲; 萬裕民; | 書刊名 | 奈米通訊 |
卷 期 | 10:4 2003.11[民92.11] |
頁 次 | 頁27-30 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 電子束微影; 近接效應; 矽奈米線; 單電子電晶體; 量子點; Electron-beam lithography; Proximity effect; Si nanowire; Single-electron transistor; Quantum dot; |
語 文 | 中文(Chinese) |