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| 題 名 | 物理氣相沈積截面型態之數值模擬=Simulation of Thin Film Cross Sectional Morphology for PVD Process |
|---|---|
| 作 者 | 蔡名詔; 翁睿哲; 張瓊丹; 黃文星; | 書刊名 | 材料科學與工程 |
| 卷 期 | 35:3 2003.09[民92.09] |
| 頁 次 | 頁146-152 |
| 分類號 | 448.57 |
| 關鍵詞 | 物理氣相沈積; 薄膜型態; 鍍膜模擬; Physical vapor deposition; Thin film morphology; Film deposition simulation; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |