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題 名 | 應用可拓理論於壓電厚膜製程最佳化=Process Optimization of Piezoelectric Thick Film Using Extension Set Analysis |
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作 者 | 羅智泓; 張士行; 陳春明; | 書刊名 | 中華技術學院學報 |
卷 期 | 27 2003.05[民92.05] |
頁 次 | 頁48-53 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 壓電厚膜; 網印; 低溫共燒; 物元概念; 關聯函數; 可拓理論; 最佳化; Piezoelectric thick film; Printing; Low-temperature sinter; Matter-elements concept; Depedent function; Extension thoery; Optimization; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本文是將壓電厚膜利用網印的方法沉積在矽晶片上,同時使用低溫共燒的方式,使得壓電厚膜與矽晶片更加的警密結合。並運用物元觀念、關聯函數等可拓理論來做製程條件質變的最佳探討,藉著田口實驗法中的直交表在最少實驗次數下,求出最佳製程參數,使其能獲得更廣泛的應用。 |
英文摘要 | This experiment was deposited piezoelectric which film which useprinting on the silicon chip and low-temperature sinter, makepiezoelectric thich film and siloicon ship structure more denser. We also use the Matter-Elements concept, dependent function inExtension Theory etc. to do the process conditions with quantitativechange degree function optimization investigation, by the Taguchi-method's orthogonal array with least experiments to request processparameter optimization to obtain various fields of applications. |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。