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題 名 | 純直流及非對稱雙極脈衝直流離子氮化金屬鈦之研究=A Comparative Study of Pure D.C. and Asymmetric Bipolar Pulsed D.C. Ion Nitriding of Titanium Metal |
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作 者 | 陳克昌; 葉通迪; 林嘉彥; 何主亮; | 書刊名 | 材料科學與工程 |
卷 期 | 35:1 2003.03[民92.03] |
頁 次 | 頁24-30 |
分類號 | 440.39 |
關鍵詞 | 純鈦; 鈦六鋁四釩; 非對稱雙極脈衝直流電漿; 離子氮化; 蘭牟爾電漿探測分析; Pure ti; Ti-6A1-4V; Ion nitriding; Asymmetric bipolar pulse direct current plasma; Langmuir probe; Plasma diagnostica; |
語 文 | 中文(Chinese) |