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題 名 | 多孔性二氧化矽薄膜之電漿處理研究 |
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作 者 | 魏大欽; 楊忠諺; 李益維; 巫盛堯; | 書刊名 | 奈米通訊 |
卷 期 | 10:1 2003.02[民92.02] |
頁 次 | 頁14-19 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 介電常數; 水氣吸附; 電漿改質; 多孔二氧化矽; Dielectric constant; Moisture uptake; Plasma treatment; Porous silica; |
語 文 | 中文(Chinese) |