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題名 | 氧/氫/氮電漿對混合有機矽氧烷聚合物之介電物性效應(1)=The Impact of Oxygen/Hydrogen/Nitrogen Plasmas on Dielectric and Physical Properties of Hybrid Organic Silsesquioxane Polymer (Part 1) |
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作 者 | 陳錦山; 陳松德; 楊聰仁; 林中魁; | 書刊名 | 真空科技 |
卷期 | 15:3 2002.09[民91.09] |
頁次 | 頁30-36 |
分類號 | 440.33 |
關鍵詞 | 混合有機矽氧烷聚合物; 介電; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本研究探討旋塗(Spin-on)混合有機矽氧烷聚合物(HOSPTM)低介電常數(k)薄膜在O2、H2或N2等電漿環境下的鍵結、介電特性的轉變行為。傅利葉轉換紅外線光譜儀(FTIR),以及原子之陰電性(Electronegativity)鍵結構造結合簡譜振盪模式分析證實:在O2與H2電漿環境中,HOSP薄膜的Si-CH3、Si-H與C-H等低偏極化及陰電性鍵結會遭受到嚴重的破壞,導致籠狀Si-O轉變為網狀Si-O的鍵結重整現象,以及Si-O-Si鍵角的上升。這些改變造成HOSP薄膜之介電常數與漏電流的嚴重上升。但是,N2電漿處理可以明顯的降低那些鍵結之破壞與介電性能之衰減,同時具有達到保護HOSP薄膜之功效,以減低對O2、H2電漿破壞之敏感性。同步輻射X光吸收能譜分析首次証實:此種保護歸因於C-N(與Si-N)鈍化層之形成。最佳的鈍化製程條件與鈍化層特性將於續文詳細報導。 |
英文摘要 | The work examines the impact of O2, H2 and N2 plasmas on dielectric and physical properties of a spin-coated siloxane-based polymer film (HOSPTM). Fourier transform Infrared spectroscopy (FTIR), along with harmonic stretching model in conjunction with electronegativity of atoms reveals that plasma generated using either O2 or H2 induces the removal of carbonaceous species from, and over-crosslinking of, the as-cured film, sharply raising the film's dielectric constant (k) and degrading insulating capacity.Conversely, nitrogen plasma tends to play a role in protecting the HOSP film against O2/H2 plasma damage ascribed to the formation of C-N (and Si-N) surface layer, as revealed by synchrotron X-ray absorption fine. |
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