頁籤選單縮合
題名 | IC製程用193nm光阻劑之製備及微影性質研究=Study on Synthesis and Lithographic Performance of 193nm Photoresist |
---|---|
作者 | 柯正達; 傅士奇; 謝國煌; Ko, Jeng-dar; Fu, Shih-chi; Hsieh, Kuo-huang; |
期刊 | 國立臺灣大學工程學刊 |
出版日期 | 200202 |
卷期 | 84 2002.02[民91.02] |
頁次 | 頁67-83 |
分類號 | 448.552 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 化學增幅型光阻劑; 193nm微影術; 壓克力樹脂; 脫水反應動力; 多環系樹脂; CAMP; 193nm lithography; Methacrylate; Kinetics of dehydration; Cycloolefin; |