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題 名 | 金屬反射膜材料簡介 |
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作 者 | 李秉璋; 王正和; | 書刊名 | 工業材料 |
卷 期 | 168 2000.12[民89.12] |
頁 次 | 頁125-130 |
分類號 | 472.16 |
關鍵詞 | 反射層; 光學穿透深度; 濺鍍; Reflective layer; Optical skin depth; Sputtering; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 繼IC產業在上世紀末的獨領風騷之後,有人預言本世紀將是光電產業叱 吒風雲的年代。除了半導體材料之外,金屬薄膜在光電元件的應用也愈來愈重 要。本文主要介紹金屬光學薄膜的反射基本原理及材料選用,另外介紹幾種鍍膜 方式,如蒸鍍、濺鍍及離子被覆等技術,並且探討鍍膜方式對金屬反射膜性質的 影響。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。