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- 題 名:
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- 卷 期:
12:4 1999.12[民88.12]
- 頁 次:
頁36-45
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:2 2000.07[民89.07]
- 頁 次:
頁59-63
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:2 2000.07[民89.07]
- 頁 次:
頁64-67
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:2 2001.07[民90.07]
- 頁 次:
頁34-45
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:1 1996.04[民85.04]
- 頁 次:
頁31-35
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題 名:
以非平衡磁控濺射法蒸鍍Cr-C:H薄膜之研究:The Study of Cr-C:H Coatings by Unbalanced Magnetron Sputtering
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:2 1996.07[民85.07]
- 頁 次:
頁29-33
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題 名:
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題 名:
以電漿輔助離子化磁控濺鍍法製備Li-Ni-O薄膜及其特性分析:Ionized Magnetron Sputter Deposited Li-Ni-O thin Films
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
16:1 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁21-26
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
8:3/4 民84.12
- 頁 次:
頁10-15
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
8:3/4 民84.12
- 頁 次:
頁16-24
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:2 1992.09[民81.09]
- 頁 次:
頁17-19
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:3/4 民81.12
- 頁 次:
頁25-28
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:3/4 民81.12
- 頁 次:
頁29-31
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:1 1991.02[民80.02]
- 頁 次:
頁27-31
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:1 1991.02[民80.02]
- 頁 次:
頁32-34
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題 名:
characterization of Plasma-aid PVD Processes:電漿加強式物理氣相被覆法之性能
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:2 1993.08[民82.08]
- 頁 次:
頁37-45
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
3:3 1990.08[民79.08]
- 頁 次:
頁19-35