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題 名:
Surface Treatment of Porous Expanded Polytetrafluoroethylene by Microwave Plasma:微波電漿對孔洞性聚四氟乙烯之表面處理
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:1 2001.11[民90.11]
- 頁 次:
頁85-90
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:3 2000.09[民89.09]
- 頁 次:
頁38-47
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題 名:
微波電漿化學氣相法沈積SiNC硬膜及其特性分析:Growth and Characterization of SiNC Hard Film by MPCVD
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:2 2001.07[民90.07]
- 頁 次:
頁27-33
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁130-134
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題 名:
控制電漿位置以成長類鑽奈米尖錐:Deposition of Nano Diamond-like Tip by Plasma Position Controlling
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:1 2003.03[民92.03]
- 頁 次:
頁31-35
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27:4 1995.12[民84.12]
- 頁 次:
頁323-326
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27:3 1995.09[民84.09]
- 頁 次:
頁227-236
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題 名:
以微波電漿化學氣相沉積法在鑽石緩衝層上成長立方氮化硼薄膜:Growth of Cubic Boron Nitride Films on Diamond Buffer Layers Via MPCVD
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:1 2004.03[民93.03]
- 頁 次:
頁59-63
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題 名:
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題 名:
添加甲烷氣體對微波電漿不銹鋼軟氮化處理之影響:The Effect of CH4 on Microwave Plasma Nitrocarburized Stainless Steel
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁1-7
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題 名:
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題 名:
微波電漿合成奈米碳管之設備開發:Development of Microwave Plasma Synthesis Equipments
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
255 2004.06[民93.06]
- 頁 次:
頁106-114
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題 名:
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題 名:
低溫奈米碳管製程研究:The Study of Carbon Nanotube for the Growing Process under Low Temperature
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19:1 2007.04[民96.04]
- 頁 次:
頁207-212
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20:1(A) 2008.07[民97.07]
- 頁 次:
頁11-16
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:1 2008.08[民97.08]
- 頁 次:
頁211-219
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:3 2009.04[民98.04]
- 頁 次:
頁19-31
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:1 民95.08
- 頁 次:
頁33-38
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
237 民95.09
- 頁 次:
頁73-78
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22 2007.03[民96.03]
- 頁 次:
頁21-26
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
3 2007.05[民96.05]
- 頁 次:
頁159-177
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:1 2007.08[民96.08]
- 頁 次:
頁419-429
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:1 2007.08[民96.08]
- 頁 次:
頁441-448