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題名 | 0.1微米世代的微影解決方法= |
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作者 | 廖明吉; |
期刊 | 國科會國家毫微米元件實驗室通訊 |
出版日期 | 19981100 |
卷期 | 5:4 1998.11[民87.11] |
頁次 | 頁28-32 |
分類號 | 448.57 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 光學微影技術; Optical lithography; |
中文摘要 | 半導體工業由於光學微影技術的精進,導致半導體工業長期持續成長不小,而目前 正處於困難邊緣。 光學微影技術 (Optical Lithography) 正面臨抉擇, 它多年來持續的改 善元件性能、元件積集度並使成本大量降低以後, 工業界目前正開始面臨它的危機。在美國 、日本及歐洲政府、業界及學術界所組成的策略聯盟 (consortium) 已形成, 試圖努力解決 即將到來的危機。這些策略聯盟的工作無不尋找能延長光學微影的壽命及開發非光學微影術 的製程技術。 他們所面臨的特殊問題是要確定 0.1 微米或更小的微影術如何影響半導體工 業的經濟發展。本文將簡單闡述現今光學微影的限制及非光學微影術目前的發展狀況。 |
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