查詢結果分析
相關文獻
- Modeling of UV-Catalyzed Hydrogen Peroxide Decomposition in the Presence of Chloride Ion
- 使用H[feaf]O[feaf]/UV程序作為染料製程廢水後續高級處理技術
- 過氧化氫在UV光照射下之裂解行為研究:氯離子及硝酸根離子之影響效應
- 使用H[feaf]O[feaf]/UV程序去除垃圾滲出水中色度與有機物之可行性研究
- H[feaf]O[feaf]/UV Oxidation of Polyethylene Glycol in Copper Sulfate Electroplating Wastewater of Printed Circuit Board Manufacturing
- UV/H[feaf]O[feaf]氧化程序於水處理之應用
- 氯鹽對Acid Black 24偶氮染料於UV/H[feaf]O[feaf]反應系統中脫色效率之影響
- Mineralization of Petroleum Hydrocarbons and Surfactant in the Presence of Cations and Anions
- Fe-Initated Redox Systems for Degrading Trichloroethylene
- 氯離子對過硫酸鹽氧化地下水中三氯乙烯之影響
頁籤選單縮合
題名 | Modeling of UV-Catalyzed Hydrogen Peroxide Decomposition in the Presence of Chloride Ion=氯離子存在時之紫外光催化過氧化氫分解模式 |
---|---|
作者 | 廖志祥; Liao, Chih-hsiang; |
期刊 | 中國環境工程學刊 |
出版日期 | 19980300 |
卷期 | 8:1 1998.03[民87.03] |
頁次 | 頁35-42 |
分類號 | 445.6 |
語文 | eng |
關鍵詞 | 紫外光; 過氧化氫; 氯離子; 動力模式; 氫氧自由基; Ultraviolet light; Hydrogen peroxide; Chloride ion; Kinetic modeling; Hydroxyl radicals; |
英文摘要 | 本論文嘗試描述氯離子對H�烙��/UV氧化程序之影響。根據文獻報告,提出過氧 化氫在氯離子存在時之光反應機制; 為了後續數值分析之目的, 由此機制建立了一有關 H�烙�� 和自由基之動力模式方程式。 從結果顯示,所提出之模式,可經由實驗之觀察得到定 性上之確認。在酸性 pH 條件下,氯離子含量甚至在十倍之變化下,並不致造成 H �烙 �� 分解速率之任何差異。 在某一酸性 pH 範圍內,H �烙�砟坐戲捖t率隨著 pH 增加而有顯著 之下降,超出該範圍,其分解速率則保持不變。 另外,在 H �烙��/UV 程序中,於鹼性條件 下,氯離子消耗 HO自由基之能力非常有限,相反地,當水溶液之酸性變強時,其消耗能力 變得更加顯著。 ate under acidic pH condition even with one-order-of-magnitude change. The photolytic decomposition rate of H �� O �� shows a remarkable decrease with increasing pH within a certain range of acidic pH and then remains unchanged beyond that range. Furthermore, the HO.scavenging by chloride is limited under alkaline conditions in the H �� O �� /UV process, whereas it becomes significant as the solution becomes more acidic. |
本系統之摘要資訊系依該期刊論文摘要之資訊為主。