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題名 | 光裂解性碸高分子之研究= |
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作者 | 張中興; |
期刊 | 光武學報 |
出版日期 | 19970600 |
卷期 | 22 1997.06[民86.06] |
頁次 | 頁143-162 |
分類號 | 467.41 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 聚碸; 耐侯性; |
中文摘要 | 聚��(polysulfone,PSF)為一性能優異的工程塑膠,長期使用溫度可達150℃,且 對沸水等具有良好的耐氧化性,萬年公害的隱憂漸漸浮顯。本實驗為製成無公害性的 PSF, 添加光增感劑 benzophenone、等,以期利用自然曝曬下,產生自由基,而使 PSF 自然崩解 ,並利用 IR、GPC、黏度等,以研究裂解的機構,以了解光裂解的原因,並進而控制裂解速 率。 |
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