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| 題 名 | 光裂解性碸高分子之研究 |
|---|---|
| 作 者 | 張中興; | 書刊名 | 光武學報 |
| 卷 期 | 22 1997.06[民86.06] |
| 頁 次 | 頁143-162 |
| 分類號 | 467.41 |
| 關鍵詞 | 聚碸; 耐侯性; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |
| 中文摘要 | 聚��(polysulfone,PSF)為一性能優異的工程塑膠,長期使用溫度可達150℃,且 對沸水等具有良好的耐氧化性,萬年公害的隱憂漸漸浮顯。本實驗為製成無公害性的 PSF, 添加光增感劑 benzophenone、等,以期利用自然曝曬下,產生自由基,而使 PSF 自然崩解 ,並利用 IR、GPC、黏度等,以研究裂解的機構,以了解光裂解的原因,並進而控制裂解速 率。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。