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題名 | Design for Manufacturability: IC Layout Density Optimization by Minimum-Variance Method=可製造性之設計:以最小變異法最佳化IC佈局密度 |
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作者 | 林聖哲; 董易諭; 陳飛龍; Lin, Sheng-che; Doong, Kelvin Yih-yuh; Chen, Fei-long; |
期刊 | 工業工程學刊 |
出版日期 | 20100700 |
卷期 | 27:4 2010.07[民99.07] |
頁次 | 頁281-293 |
分類號 | 440.8 |
語文 | eng |
關鍵詞 | 設計之可製造性; IC佈局; 虛擬填充; 密度最佳化; DFM; IC layout; CMP; Dummy filling; Density optimization; |