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題 名 | Thermophysical Calculation of X-Ray Mask for Quarter-Micron Lithography=0.25微米X光成像光罩之熱物理計算 |
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作 者 | 李子琦; 陳正宗; 全湘偉; 孫澄源; | 書刊名 | Proceedings of the National Science Council : Part A, Physical Science and Engineering |
卷 期 | 20:2 1996.03[民85.03] |
頁 次 | 頁158-165 |
分類號 | 471.7 |
關鍵詞 | X光成像光罩; 熱物理; X-ray lithography; Thermal-induced dimensional instability; Mask structure; Finite element technique; Silicon membrane; Tungsten absorber; Microdistortion; |
語 文 | 英文(English) |