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題名 | Investigation of ICP Etching of CVD Diamond Film=感應耦合電漿蝕刻化學氣相沉積多晶鑽石膜之研究 |
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作者 | 趙崇禮; 周文成; 簡川于; 馬廣仁; 林宏彝; 吳東權; Chao, Choung-lii; Chou, Wen-chen; Chien, Chun-yu; Ma, Kung-jenn; Lin, Hung-yi; Wu, Tung-chuan; |
期刊 | 中國機械工程學刊 |
出版日期 | 20070400 |
卷期 | 28:2 2007.04[民96.04] |
頁次 | 頁169-174 |
分類號 | 468.6 |
語文 | eng |
關鍵詞 | 感應偶合電漿; 常壓空氣電漿; CVD多晶鑽石薄膜; ICP; Atmospheric pressure air plasma; CVD diamond film; |